職位描述
該職位還未進(jìn)行加V認(rèn)證,請仔細(xì)了解后再進(jìn)行投遞!
工作職責(zé):
1、主要工作內(nèi)容:
(1)負(fù)責(zé)涂膠顯影設(shè)備Setup與工藝Recipe調(diào)試;(20%)
(2)負(fù)責(zé)各類先進(jìn)封裝與MEMS器件Litho工藝可行性分析,全新Litho工藝開發(fā),制程優(yōu)化,以及器件Litho制程制作;(30%)
(3)負(fù)責(zé)Litho工藝不良預(yù)防措施制訂,工藝缺陷及失效分析,不良改善及良率提升;(20%)
(4)負(fù)責(zé)光刻新材料評估、選型與導(dǎo)入;(20%)
2、次要工作內(nèi)容:
根據(jù)項(xiàng)目需求,負(fù)責(zé)內(nèi)/外部工作溝通、協(xié)調(diào)與推動(dòng);(10%)
任職資格:
教育程度:碩士
工作經(jīng)歷:
5年以上半導(dǎo)體Litho工藝開發(fā)經(jīng)驗(yàn),有涂膠顯影設(shè)備Setup經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先;
技術(shù)能力:
(1)具備Track設(shè)備Setup能力;
(2)熟悉半導(dǎo)體Track設(shè)備,有多類光刻材料工藝調(diào)試經(jīng)驗(yàn);
(3)熟練半導(dǎo)體行業(yè)i/g線光刻膠及顯影液材料;
所需專業(yè):
物理、化學(xué)、材料學(xué)、機(jī)械等理工科相關(guān)專業(yè);
其他要求:
良好的分析與解決問題的能力,良好的團(tuán)隊(duì)意識和責(zé)任心;
1、主要工作內(nèi)容:
(1)負(fù)責(zé)涂膠顯影設(shè)備Setup與工藝Recipe調(diào)試;(20%)
(2)負(fù)責(zé)各類先進(jìn)封裝與MEMS器件Litho工藝可行性分析,全新Litho工藝開發(fā),制程優(yōu)化,以及器件Litho制程制作;(30%)
(3)負(fù)責(zé)Litho工藝不良預(yù)防措施制訂,工藝缺陷及失效分析,不良改善及良率提升;(20%)
(4)負(fù)責(zé)光刻新材料評估、選型與導(dǎo)入;(20%)
2、次要工作內(nèi)容:
根據(jù)項(xiàng)目需求,負(fù)責(zé)內(nèi)/外部工作溝通、協(xié)調(diào)與推動(dòng);(10%)
任職資格:
教育程度:碩士
工作經(jīng)歷:
5年以上半導(dǎo)體Litho工藝開發(fā)經(jīng)驗(yàn),有涂膠顯影設(shè)備Setup經(jīng)驗(yàn)者優(yōu)先;
技術(shù)能力:
(1)具備Track設(shè)備Setup能力;
(2)熟悉半導(dǎo)體Track設(shè)備,有多類光刻材料工藝調(diào)試經(jīng)驗(yàn);
(3)熟練半導(dǎo)體行業(yè)i/g線光刻膠及顯影液材料;
所需專業(yè):
物理、化學(xué)、材料學(xué)、機(jī)械等理工科相關(guān)專業(yè);
其他要求:
良好的分析與解決問題的能力,良好的團(tuán)隊(duì)意識和責(zé)任心;
工作地點(diǎn)
地址:北京大興區(qū)西環(huán)中路12號
求職提示:用人單位發(fā)布虛假招聘信息,或以任何名義向求職者收取財(cái)物(如體檢費(fèi)、置裝費(fèi)、押金、服裝費(fèi)、培訓(xùn)費(fèi)、身份證、畢業(yè)證等),均涉嫌違法,請求職者務(wù)必提高警惕。
職位發(fā)布者
HR
京東方科技集團(tuán)股份有限公司
- 電子技術(shù)·半導(dǎo)體·集成電路
- 500-999人
- 股份制企業(yè)
- 北京市朝陽區(qū)酒仙橋路10號