發(fā)布:2023-12-27 15:21:42 關(guān)注:6540次
招聘崗位:光刻光學(xué)臨近校正(opc)技術(shù)人員
招聘人數(shù):1名
聘用方式
勞動聘用
招聘條件
研究生教育學(xué)歷,碩士及以上學(xué)位
1、光學(xué)、物理學(xué)、微電子學(xué)、計算機等相關(guān)專業(yè);
2、熟悉130~180nm技術(shù)節(jié)點光學(xué)鄰近效應(yīng)原理與相關(guān)解決方案及其對應(yīng)的光刻技術(shù),如rbopc、mbopc等;
3、熟悉opc技術(shù)流程與規(guī)則,包括光刻機opc數(shù)據(jù)收集、整理與分析流程;能獨立根據(jù)平臺光刻機相關(guān)數(shù)據(jù)建立opc模型及驗收,并進(jìn)行ret模擬;
4、掌握主流eda軟件的使用,如synopsys、mentor、cadence、華大九天等,尤其opc工具的使用;熟悉版圖設(shè)計和tapeout流程;熟悉linux操作系統(tǒng)及python軟件編程;
5、熟悉半導(dǎo)體krf或arf步進(jìn)式或掃描步進(jìn)式光刻機工作原理,熟悉相關(guān)光刻工藝及相關(guān)量測設(shè)備;
6、熟悉對180nm及以下cmos工藝流程及相關(guān)工藝模塊優(yōu)先;
7、身心健康,具有良好的溝通協(xié)作能力,獨立工作、分析與解決問題能力,英文讀寫說能力。
崗位職責(zé)
1、負(fù)責(zé)平臺krf步進(jìn)式光刻機opc數(shù)據(jù)收集、整理與分析,建立平臺opc模型及驗證,opc相關(guān)ret光刻模擬;
2、平臺科研流片版圖的opc驗證與優(yōu)化;
3、與平臺工藝部門合作,了解工藝需求,提出并完成平臺科研項目版圖的opc解決方案;
4、完成領(lǐng)導(dǎo)交辦的其他任務(wù)。
崗位待遇
參照學(xué)校及學(xué)院相關(guān)規(guī)定執(zhí)行/面議。
其他
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聯(lián)系方式
聯(lián)系人:宋老師
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聯(lián)系地址:東川路800號微電子大樓103
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